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【我們為什麼要挑選這篇文章】日本佳能公司將斥資 380 億日圓建微影曝光設備新廠,預計 2025 投入營運。事實上,佳能在半導體微影曝光設備領域市占全球第二,僅次於 ASML,因此決定在半導體需求直線上升之際,加入增產行列!(責任編輯:楊令瑜)

日本佳能公司(Canon)周四(6 日)發布新聞稿,該公司為強化半導體製造裝置的生產能力,決定斥資約 380 億日元在日本栃木縣宇都宮市蓋新工廠,目標 2025 年上半年投入營運。

根據日本佳能的新聞稿,新工廠將設在日本栃木縣宇都宮市清原工業園區,廠區面積約 7 萬平方公尺,投資金額(建設費)約 380 億日元(新台幣 83 億元),預定 2023 年下半年動工,目標 2025 年上半年投入營運,事業內容為半導體裝置的開發、生產及服務等。

5 年經營計畫曝光,目標強化生產力

該則新聞稿提到,日本佳能集團自 2021 年展開全新的 5 年期間經營計畫,在其「全球優良企業集團構想」的第 6 階段,揭示「基於生產性向上和事業創造,促進投資組合轉換」的基本方針,要在主要戰略之一的半導體製造裝置事業的擴大方面來進行努力。

其他內容還有,半導體市場在 IoT 物聯網和 5G 等「社會智能化」的帶動下將持續成長。佳能努力在製品、業務、支援等各項領域進行強化,半導體曝光裝置的市占率也正在擴大。今後,為因應預料在中長期出現的需求增加,在宇都宮事業所內建設新工廠,以強化生產能力。

(本文經合作夥伴 鉅亨網 授權轉載,並同意 TechOrange 編寫導讀與修訂標題,原文標題為〈日本佳能砸380億日元 蓋半導體製造裝置新工廠〉。首圖來源:Flickr/OiMax