7 奈米製程被台積電獨霸,不得 NVIDIA、AMD 青睞的三星改畫 3 奈米大餅

【我們為什麼挑選這篇文章】三星的 7 奈米技術多應用在網路和汽車晶片領域,但目前市場因應電競熱,對高效繪圖處理器(GPU)需求較大,難以獲得輝達(NVIDIA)和超微半導體 (AMD) 青睞,因此轉往 3 奈米技術,搶灘高效運算市場;不過三星在晶圓代工技術論壇中特別公布,將導入環繞式閘極 (GAA) ,有望能突破目前 7 奈米的工藝。

隨著代工二哥格芯(GlobalFoundries)退出 7 奈米製程行列,台積電似乎大獲全勝,不過擁最大半導體廠的三星也加入了晶圓競賽,兩王相爭,看頭十足。(責任編輯:鄧天心)

週二 (4 日) 三星召開 2018 晶圓代工技術論壇,三星在席間不僅揭露了手上的 7 奈米投片進度,並且還揭露了 3 奈米製程技術的藍圖,嶄露搶灘未來高效運算 (high-performance computing) 和物聯網市場的野心。

如下圖三星釋出的製程藍圖所示,省先針對 7 奈米部分,三星晶圓代工部門總裁 ES Jung 表示, 三星的七奈米是全球首個導入極紫外光 (EUV) 微影光刻技術的晶圓代工廠, 這與過去傳統的 ArF 浸沒式光刻大不相同,該製程已在 2018 年上線投產。

而 2019 年該公司將進一步推出優化 7 奈米 的優化版,即 5 奈米和 4 奈米製程;但是最受全場矚目的,則是 三星揭露 2020 年 3 奈米製程將首度導入環繞式閘極 (GAA) 電晶體 ,此前比利時微電子研究中心即曾發表研究報告認為, 環繞式閘極 (GAA) 電晶體將是未來最有可能突破 7 奈米技術以下 FinFET 工藝之候選人

TO 編按:環繞式閘極 (GAA) 電晶體和 FinFETs 有相同的概念,不同之處在於此元件閘極圍繞了整個載子通道。

此元件已經藉著利用矽奈米線和蝕刻砷化鎵銦(InGaAs)奈米線被建造成功。

三星公開 7 奈米投產狀況,並強調 EUV 微影光刻技術與傳統的 ArF 浸沒式光刻大不相同。

格芯不玩剩台積電?三星:未必

目前台積電已吃下 AMD 代號 Rome 的二代 Epyc 處理器,該處理器採用了 Zen 2 處理器架構和 7 奈米製程,隨著格羅方德 (GlobalFoundries) 八月底也宣布退出 7 奈米先進製程競爭,三星表示, 乍看之下台積電大獲全勝,但其實三星仍有機會

三星指出, 考量到智慧型手機廠也有整合單晶片 (SoC) 之生產需求,故台積電不太可能有足夠空間全面發展 7 奈米生產線,產能估計不足以滿足目前技術領先的幾間 GPU 公司, 因此依照推斷,將有些廠下一代晶片也將導入 7 奈米製程,並交由三星生產。

在三星這場簡報會議上,三星估計,未來該公司的 7 奈米技術將應用在網路和汽車晶片領域,但市場人士多有質疑,三星 7 奈米製程僅能獲網路、汽車晶片採納,而非更為高效的 GPU 晶片市場,這意味著三星的 7 奈米製程,很可能並不合乎 NVIDIA (NVDA-US)、AMD (AMD-US) 等晶片巨頭的技術標準。

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(本文經合作媒體 鉅亨網 授權轉載,並同意 TechOrange 編寫導讀與修訂標題,原文標題為 〈7 奈米製程未獲 Nvidia、AMD 信賴?三星改畫 3 奈米藍圖大餅 〉,圖片來源:YouTube。)

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